Структура, состав и электрическое сопротивление тонких слоев металлического рутения, полученных импульсным
осаждением из газовой фазы

  • УДК 621.793:546.96
  • DOI 10.26902/JSC20170809
  • Просмотров: 618
© Васильев В.Ю.
Новосибирский государственный технический университет, Россия
Систематизированы экспериментальные данные о взаимосвязи удельного электросопротивления, плотности, структуры и состава тонких слоев рутения (ТСР), синтезированных в интервале температуры 160—310 °C при импульсном осаждении из газовой фазы с участием карбонил-диенового предшественника Ru(CO)3(C6H8) и NH3 и N2O в качестве вторых реагентов. Основной примесью в ТСР после их осаждения и отжига является углерод с концентрацией ~30—50 ат.%. Для повышения плотности и снижения электросопротивления ТСР до значений менее 50 мкОм·см целесообразно при синтезе использовать N2O, а также применять последующий термический отжиг ТСР при температурах до 700 °C, улучшающий кристаллическую структуру слоев.
Ключевые слова: слои рутения, карбонил-диеновый предшественник, импульсное осаждение из газовой фазы, плотность, структура, состав и электрическое сопротивление слоев рутения

Импакт-фактор                     0.8

Срок опубликования         4 мес  

Уважаемые авторы и подписчики “Журнала структурной химии”,
в свободном доступе
архив ЖСХ до 2020 года ("Номера").


Разместить рекламу в ЖСХ

Самое интересное
Статьи, к которым чаще всего обращаются посетители

Рубрики