Фоточувствительные
мемристорные структуры на основе восстановленного оксида графена и углеродных
наночастиц
© 2024 Баранов А.Н.
1 , Митюшев Н.Д.
2,3, Фирсов А.А.
2, Кабачков Е.Н.
4,5, Панин Г.Н.
2
1
Химический факультет, Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Россия
2
Институт проблем микроэлектроники и особо чистых материалов РАН, Черноголовка, Россия
3
Факультет наук о материалах, Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Россия
4
Институт физики твердого тела РАН, Черноголовка, Россия
5
ФИЦ Проблем химической физики и медицинской химии РАН, Черноголовка, Россия
Статья поступила 20.10.2023 г.
Исследованы
фоточувствительные мемристорные структуры на основе оксида графена,
восстановленного в гидротермальных условиях. Длина волны поглощения света в
таких структурах контролировалась углеродными наночастицами, нанесенными на
поверхность пленки оксида графена. Полученные структуры демонстрировали
фотомемристивные состояния, которые контролировались светом различной длины
волны и напряжением смещения.
Ключевые слова: оксид графена, восстановленный оксид графена, углеродные наночастицы, допирование азотом, мемристивные состояния, фоточувствительность, фотомемристор
DOI 10.26902/JSC_id125704